学术
国际标准刊号：ISSN 1671-802X
国内统一刊号：CN 34-1212
摘 要:
介绍了光栅尺纳米测量技术的国内外研究现状，并对它们优劣进行了分析，在上述成果的基础上，得出一种以光栅栅距为测量基准，测量精度主要取决于光栅栅线的刻制精度的光栅干涉测量方法，它受光源光强和波长变化的影响很小，因此在工况条件下能够具有较好的测量精度和稳定性，符合大量程、高分辨力、动态等纳米测量技术的发展趋势，最后对此测量系统将实现样机仪器化、产业化进行了展望。[著者文摘]
文章出处:
《安徽电子信息职业技术学院学报》-2008年1卷1期 -70-71页
Journal of Anhui Vocational College of Electronios & Information Technology
栏目信息:
文献标识码:
A
文章编号:
1671-802X（2008）01-0070-02
[参考文献]
收稿日期: 2007-11-30
基金资助:
安徽省教育厅自然科学基金项目资助
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