学术
国际标准刊号：ISSN 1004-4507
国内统一刊号：CN 62-1077
摘 要:
利用臭氧消毒水和淡氟氢酸清洗技术，使设备生产厂家的单晶圆旋转清洗工艺适应向小型生产线转入的应用，从而使生产周期的缩短成为可能。[著者文摘]
文章出处:
《电子工业专用设备》-2007年36卷6期 -16-23页
Equipment for Electronic Products Marufacturing
栏目信息:
分 类 号:
文献标识码:
A
文章编号:
1004-4507（2007）06-0016-08
[参考文献]
Implementing a Single-wafer Cleaning Technology Suitable for Minifab Operations
Takeshi Hattori （ Sony Semiconductor ）
Abstract:
The use of a single-wafer spin cleaning process using ozonated water and dilute hydrogen fluoride accommodates a manufacturer＇s shift to minifab operations, where shorter cycle times are possible.[著者文摘]
Key words:
Single-Wafer Cleaning; Minifab; Wet Cleaning Processes; Metal Removal; Surface Contamination Control
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