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绝缘文摘与专利
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| 《绝缘材料》2011年 第5期 | 摘要：SiO2含量对PI/SiO2杂化薄膜性能的影响/王勇涛;王伟伟;张学艳;等/功能材料,2011（08）聚酰亚胺与Si O2杂化形成的有机-无机杂化薄膜体现出了优异的综合性能,在催化与分离、微电子、光电和绝热材料等领域具有广泛的应用及发展潜力。杂化材料相关的研究也越来越多,就Si O2含量对聚酰亚胺/Si O2杂化薄膜的光、电、热和力学性能的影响进行综述, | |
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| 格式：PDF 页数：7 页 页码范围：74-80页 | ||
| 学科分类： | ||
| 关 键 词：SiO2含量 杂化薄膜 专利 文摘 绝缘 聚酰亚胺 有机-无机 薄膜性能 | ||
| 来源期刊：《绝缘材料》2011年 第5期 | ||
| 收录数据库：中文科技期刊数据库 | ||
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