| 《电子测量技术》2006年 第4期 | 摘要:提出一种新型光电探测器,采用浅沟槽隔离工艺,在双光电探测器基础上制作而成。通过使用Silvaco公司的器件模拟软件Atlas进行器件模拟,分析了浅沟槽对探测器关键参数的影响,包括响应度和响应速度。结果表明,浅沟槽双光电探测器具有良好的特性,响应度和响应速度都优于双光电探测器。 | |
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| 格式:PDF 页数:3 页 页码范围:24-25页 | ||
学科分类:
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| 关 键 词:双光电探测器 浅沟槽隔离 器件模拟 响应度 | ||
| 来源期刊:《电子测量技术》2006年 第4期 | ||
| 收录数据库:中文科技期刊数据库 | ||
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