学术
国际标准刊号：ISSN 1001-9731
国内统一刊号：CN 50-1099
摘 要:
采用恒电位双电解槽法在硼酸镀液体系中，以单晶Si(111)为基底电沉积制备Co／Cu多层膜，确定了双槽法制备多层膜的工艺条件，为得到优良的多层膜巨磁阻材料，镀液体系中加入了自制的添加剂。并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌，小角度X射线衍射(LXRD)谱图中出现了2个衍射峰，大角度X射线衍射(MXRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰，表明多层膜具有超晶格结构。用物性测量系统(PPMS)测试了Co／Cu多层膜的巨磁阻(GMR)性能，GMR值达到52．52％。
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文章出处:
《功能材料》-2005年36卷2期 -187-189页
Journal of Functional Materials
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