流延-共烧法制备掺杂氧化铈基阳极／电解质双层结构
关翔锋[1] 刘志辉[1] 周丽花[2] 周和平[1]
[1]清华大学材料科学与工程系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084 [2]中国科学院福建物质结构研究所,福建福州350002
摘 要:
采用甘氨酸／硝酸盐（GNP）法合成了具有较高烧结活性的Ce0.8Gd0.05Y0.15O1.9（GYDC）粉体，通过流延-共烧法制备了NiO—GYDC阳极／GYDC电解质双层结构。结果表明：GYDC电解质薄膜经过1400℃保温4h后可烧结致密，说明GNP法制备的GYDC粉体的烧结活性较高；通过流延．共烧法可以成功制备外观完好、平整的NiO-GYDC／GYDC双层结构，满足SOFC的组装要求。
学科分类:
TF124.5[工业技术 > 冶金工业 > 冶金技术 > 粉末冶金（金属陶瓷工艺） > 粉末成型、烧结及后处理 > 烧结工艺]参考文献
相关期刊
关注本文的人:
看过本文的人还看过:
cqvip.com