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真空磁控溅射靶Ni—V合金的均匀性研究

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夏慧

稀有金属
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国际标准刊号:ISSN 0258-7076
国内统一刊号:CN 11-2111

摘  要:

Ni-V合金靶材无磁性,该合金由真空熔炼制成,压力加工后晶粒得以细化,靶材的尺寸为Ф225×12.7mm及276×136×9mm。合金的纯度为99.7%。磁性材料镍中添加钒有利于磁控溅射。在溅射过程中,Ni-V合金中的镍被溅射于硅片,用作粘附层,钒则作为阻挡层,合金靶经X射线衍射分析确定为单相固溶体,经扫描电镜及X射线能谱仪测定,钒在Ni-V合金中的平面方向和垂方向上分布均匀。

文章出处:

《稀有金属》-1994年18卷6期,412 -436-439,412页

Chinese Journal of Rare Metals

分 类 号:

TF131

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