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化学气相沉积
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田民波
《表面技术》
1989年第3期
页 数:
共5页
页码范围:
33-37页
关 键 词:
化学气相沉积
CVD
半导体
学科分类:
TG174.44
[
工业技术
>
金属学与金属工艺
>
金属学与热处理
>
金属腐蚀与保护、金属表面处理
>
腐蚀的控制与防护
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金属表面防护技术
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金属复层保护
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