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不同邻面抛光方法对牙釉质表面粗糙度及表面形貌的影响

《口腔医学研究》2011年 第10期 | 隋磊 王宁 周金阔   天津医科大学口腔医院修复科 天津300070
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摘 要:目的:评价4种邻面抛光方法对邻面釉质表面粗糙度及显微形貌的影响,为邻面抛光方法的选择提供依据。方法:选择21颗离体牙前磨牙,沿颊舌面中线纵剖后获得邻面釉质试件42枚,再用自凝塑料包埋,暴露邻面釉质,用浮石粉抛光,并超声清洗。将42个试样均分为6组,分别作如下处理:A组空白对照,不做处理;B组:阴性对照,采用标准金刚砂车针切磨触点及其周围釉质,切磨后不抛光;其余4组为实验组,经标准金刚砂车针切磨后分别采用以下方法抛光:C组:极细粒度金刚砂车针抛光;D组:裂钻抛光;E组:矽粒子抛光;F组:彩虹抛光条抛光。之后用粗糙度仪测定釉面粗糙度,并进行扫描电镜观察。结果:标准金刚砂车针切磨后粗糙度大幅度增加(P〈0.05),釉质表面发生明显条形凹陷性缺损;经4种方法抛光后,釉质表面粗糙度均有显著下降(P〈0.05),显微形貌均较阴性组光滑,其中矽粒子抛光组可达到较空白对照组更为光滑的表面。结论:实验涉及的4种不同邻面抛光方法均有助于降低釉质切磨区域的表面粗糙度,但抛光效果存在差异;采用矽粒子抛光可完全抵消牙体预备时旋转器械对邻牙邻面的切磨作用,获得最为光滑的釉质表面。
【分 类】【医药、卫生】 > 口腔科学 > 口腔矫形学 > 口腔工艺学
【关键词】 牙釉质 粗糙度 表面形貌 抛光
【出 处】 《口腔医学研究》2011年 第10期 873-876页 共4页
【收 录】 中文科技期刊数据库

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