| 《半导体学报》2003年 第10期 | 摘要:提出了一种新型结构的硅光电负阻器件——光电双耦合区晶体管(photoelectric dual coupled areatran sistor,PDUCAT),它是由一个P-N结光电二极管和位于两侧的两个纵向NPN管构成的.由于两个NPN管到光电二极管的距离不同,使得它们对光生空穴电流的争抢能力随外加电压的变化产生差异,同时两个NPN管电流放大系数相差较大,最终导致器件负阻现象的出现.文中对PDUCAT进行了工艺模拟和器件模拟,围绕着负阻的形成机理和影响器件性能的主要参数进行了讨论,初步建立了器件模型. | |
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| 格式:PDF 页数:6 页 页码范围:1078-1083页 | ||
学科分类:
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| 关 键 词:光电器件 负阻 模拟 晶体管 | ||
| 来源期刊:《半导体学报》2003年 第10期 | ||
| 收录数据库:中文科技期刊数据库 | ||
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