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铜铟镓硒薄膜组件激光刻线最佳间距的研究

《建材世界》2016年 第3期 | 彭寿 王丛笑 杨卫明 傅干华 王伟 吴美平   中国建材国际工程集团有限公司 上海200063 AVANCIS GmbH公司 莱比锡04860
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摘 要:通过建立数学模型推导出以有效工作区宽度w为参数的功率损失方程,根据铜铟镓硒薄膜和导电膜的实际电学参数计算出了优化的w值,从而得到最佳激光刻线间距为5.56mm,进一步研究了铜铟镓硒薄膜组件激光刻线间距对输出功率损失的影响。
【分 类】【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 光电子技术、激光技术 > 激光技术、微波激射技术 > 激光物理和基本理论
【关键词】 铜铟镓硒 激光刻线 透明氧化物导电膜 死区 功率损失
【出 处】 《建材世界》2016年 第3期 13-16页 共4页
【收 录】 中文科技期刊数据库

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