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准分子激光直接刻蚀聚酰亚胺技术研究

《微细加工技术》1989年 第2期 | 任临福 张玉书   吉林大学 吉林大学
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摘 要:<正> 一、引言随着大规模集成电路和集成光学的不断发展,对加工技术的要求越来越高,如目前提出图形的精细化,过程低温化,掺杂薄层化及可控性优化等,而准分子激光器则以它能量高、波长短(200~400nm)等优点为解决这些问题提供了有利条件。于是,八十年代开始形成了准分子微细加工新兴技术领域。准分子激光微细加工大体可分为激光曝光技术,激光CVD更多还原
【分 类】【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 微电子学、集成电路(IC) > 大规模集成电路、超大规模集成电路
【关键词】 准分子 激光 刻蚀 聚酰亚胺
【出 处】 《微细加工技术》1989年 第2期 36-38页 共3页
【收 录】 中文科技期刊数据库

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