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立式扩散/LP CVD系统

《微细加工技术》1989年 第2期 | 水品阳一 吴明华   Iereor Systems 常务董事、日本东京
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摘 要:利用热能原理的热扩散和热氧化技术的历史悠久,即便在今天的兆位级时代也可以说是基本技术之一,因此,扩散炉和氧化炉以卧式电炉作为基本形式从硅以前锗的时代开始已连续使用了几十年,不言而喻,在这期间由于温度控制系统的CPU化,由软着陆和悬臂架、升降机等带来的自动化和无人(尘)化,由无人工作台及HEPA(高效微粒空气过滤器)、ULPA
【分 类】【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 半导体器件制造工艺及设备 > 扩散
【关键词】 扩散炉 立式扩散 LP-CVD
【出 处】 《微细加工技术》1989年 第2期 72-78页 共7页
【收 录】 中文科技期刊数据库

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