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基准校正技术概述

《微细加工技术》1993年 第2期 | 邓军   中科院光电技术研究所 成都 610209
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摘 要:本文从最基本的角度出发,介绍了亚微米分步重复投影光刻机中的一项新的检测技术——基准校正技术。简要地说明了该项技术的重复性、必要性和最新发展趋势。更多还原
【分 类】【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 半导体器件制造工艺及设备 > 光刻、掩膜【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 微电子学、集成电路(IC) > 混合集成电路 > 半导体混合集成电路
【关键词】 光刻机 基准校正 DSW 半导体集成电路
【出 处】 《微细加工技术》1993年 第2期 17-22页 共6页
【收 录】 中文科技期刊数据库