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亚微米接触式X射线曝光对准系统

《微细加工技术》2001年 第1期 | 王继红 苏伟军 叶甜春 刘业异   中国科学院光电技术研究所 成都610209
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摘 要:介绍了接触式X射线曝光对准系统的设计原理,对其关键部分(精密调整台、微位移控制、对准光学系统等)做了详细阐述,并进行了系统的精度分析。
【分 类】【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 半导体器件制造工艺及设备 > 光刻、掩膜
【关键词】 X射线光刻 掩模 曝光对准系统 亚微米
【出 处】 《微细加工技术》2001年 第1期 14-17页 共4页
【收 录】 中文科技期刊数据库