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磁过滤阴极真空弧沉积薄膜研究

《微细加工技术》2001年 第1期 | 吴瑜光 张通和 张荟星 张孝吉 王广甫   北京师范大学 北京师范大学分析测试中心
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摘 要:采用磁过滤阴极真空孤沉积技术对从孤源引出离子束中的大颗粒进行过滤后,在硅和聚合物表面进行离子注入和低能离子束沉积,可获得特性优异的沉积金属膜、超硬膜(类金刚石,CN膜)、陶瓷膜(TiN,TiC)等。电子显微镜观察表明,大颗粒已被过滤,表面结构致密。由于先进行离子注入,在基体表面预先形成了过渡层,从而改善了沉积膜的粘合特性,膜与基体的粘合特性有了明显提高。测量结果表明,沉积膜的硬度、抗磨损和抗腐蚀特性均有了明显提高。非晶金刚石薄膜表面硬度可达到56GPa.
【分 类】【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 材料 > 一般性问题 > 制取方法与设备 > 半导体薄膜技术
【关键词】 磁过滤 离子沉积 类金刚石膜 阴极 真空弧沉积薄膜
【出 处】 《微细加工技术》2001年 第1期 45-49页 共5页
【收 录】 中文科技期刊数据库