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MEMS器件中电极制作工艺的研究

《微细加工技术》2005年 第3期 | 张清涛 李艳秋   中国科学院电工研究所 微纳技术及应用研究组 北京 100080
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摘 要:研究了常用的国产BP212正型紫外光刻胶和光学曝光机在利用剥离工艺制备电极中的适用性.结果表明,采用国产的光刻胶和曝光设备完全可以得到实用性的带有凹面的光刻胶剖面和线条均匀性达到微米级的金属线条,简化了lift-off工艺,降低了成本,改进了金属电极的制备方法.
【分 类】【工业技术】 > 自动化技术、计算机技术 > 自动化技术及设备 > 自动化系统 > 一般自动化系统 > 机电系统
【关键词】 光刻胶 剥离工艺 电极
【出 处】 《微细加工技术》2005年 第3期 53-56页 共4页
【收 录】 中文科技期刊数据库