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电子束重复增量扫描曝光方式的反应机理研究

《微细加工技术》2006年 第5期 | 卢文娟 张玉林 孔祥东 郝惠娟   山东大学 控制学院 电子束研究所 济南 250061 山东大学 控制学院 电子束研究所 济南 250061 东营职业学院 山东东营 257091 山东大学 控制学院 电子束研究所 济南 250061
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摘 要:从高分子辐射化学的角度分析了电子束曝光的实际反应机理,推导得出曝光辐射剂量与辐射降解程度间的关系,提出了重复增量扫描方式的电子束微三维加工方法.通过在SDS-3型电子束曝光机上对正性抗蚀剂PMMA进行曝光实验,显影后得到轮廓清晰的三维结构,验证了该方法的可行性.
【分 类】【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 半导体器件制造工艺及设备 > 光刻、掩膜
【关键词】 电子束光刻 微三维加工 辐射降解 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)
【出 处】 《微细加工技术》2006年 第5期 13-17页 共5页
【收 录】 中文科技期刊数据库