您的位置:网站首页 > 《中文科技期刊数据库》 > 工程技术 > 电子电信 > 半导体 > 摘要

衍射光学元件在无掩模光刻中的应用

《微细加工技术》2006年 第5期 | 佟军民 胡松 李爱敏 谢常青   中国科学院光电技术研究所 成都 610209 中国科学院研究生院 北京 100039 中国科学院光电技术研究所 成都 610209 河南许昌职业技术学院 河南许昌 461000 中国科学院微电子研究所 北京 100029
★ 收藏 | 分享
  • 第1页
  • 第2页
  • 第3页
  • 第4页
论文服务:
摘 要:描述了波带片/多孔透镜阵列无掩模光刻方法,着重介绍了波带片的几何结构特点和衍射聚焦特性,研究了影响光刻分辨率的因素和使用位相型波带片代替振幅型波带片提高衍射效率的设计方法,讨论了高级衍射焦点对波带片的光刻对比度的影响及消除措施,表明了波带片光刻有光刻对比度和高光刻分辨率受限于最小结构尺寸两个技术难点.对比介绍了多孔透镜的结构和衍射聚焦原理,论述了利用多孔透镜抑制高级衍射焦点和焦平面上次级大的特性,可以提高光刻对比度、提高光刻分辨率、克服波带片受限于最小结构尺寸的缺点.
【分 类】【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 半导体器件制造工艺及设备 > 光刻、掩膜
【关键词】 无掩模光刻 波带片 多孔透镜 分辨率 光刻对比度
【出 处】 《微细加工技术》2006年 第5期 18-23页 共6页
【收 录】 中文科技期刊数据库