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掩模移动曝光系统精密定位工件台研制

《微细加工技术》2007年 第3期 | 佟军民 胡松 余国彬   中国科学院光电技术研究所 成都 610209 中国科学院研究生院 北京 100039 河南许昌职业技术学院 许昌 461000 中国科学院光电技术研究所 成都 610209 中国科学院光电技术研究所 成都 610209
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摘 要:为满足掩模移动曝光技术制作微光学元件的要求,研制了接近式曝光系统中使用的x-y二维精密移动工件台.该工件台由x-y二维整体手动工作台子系统、x-y二维掩模精密移动台子系统和承片台子系统组成.利用一个方导轨和两对V形导轨组成的滚动导轨副实现了x向和y向精密移动的导向功能;利用驱动器、电机、光栅、细分卡、单片机构成的闭环控制系统保证了x和y向的运动精度;在气浮的作用下,利用掩模版靠平基片实现了调平功能;利用差动螺旋机构和1∶2杠杆缩小机构实现了间隙的调整功能.经检测,工件台在8 mm的工作行程范围内,沿x,y方向移动的直线性分别达到了4'和3',两个方向的正交性达到了10',运动定位精度达到了1.2 μm.
【分 类】【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 半导体器件制造工艺及设备 > 制版
【关键词】 掩模移动曝光技术 接近式曝光 x-y二维精密工件台 定位精度
【出 处】 《微细加工技术》2007年 第3期 18-22页 共5页
【收 录】 中文科技期刊数据库