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用于非球面测试的位相型计算全息图制作

《微细加工技术》2008年 第6期 | 马杰 朱效立 谢常青 叶甜春 赵珉 刘明 陈宝钦 朱日宏 高志山 马骏   中国科学院微电子研究所 南京理工大学光学工程系
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摘 要:本文对计算全息图元件的设计和制作关键技术进行了研究,自行开发了计算全息图元件光刻图形计算机生成算法和软件,研究了采用高速电子束直写系统制作大面积、非周期性复杂光刻图形技术,在此工作的基础上,采用湿法腐蚀铬、感应耦合等离子体刻蚀石英玻璃两步图形转移的方案,制作出了图形区直径为64 mm、最外环线条宽度为2.0μm、刻蚀深度为690 nm的位相型计算全息图元件,并对加工结果进行了测量。结果表明,本方案所制作的计算全息图元件具有良好的加工质量,符合应用的需求。
【分 类】【数理科学和化学】 > 物理学 > 光学 > 信息光学 > 全息光学
【关键词】 非球面测试 计算全息图 电子束光刻 湿法腐蚀 感应耦合等离子体刻蚀
【出 处】 《微细加工技术》2008年 第6期 7-8页 共3页
【收 录】 中文科技期刊数据库