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| 摘 要：本文对计算全息图元件的设计和制作关键技术进行了研究,自行开发了计算全息图元件光刻图形计算机生成算法和软件,研究了采用高速电子束直写系统制作大面积、非周期性复杂光刻图形技术,在此工作的基础上,采用湿法腐蚀铬、感应耦合等离子体刻蚀石英玻璃两步图形转移的方案,制作出了图形区直径为64 mm、最外环线条宽度为2.0μm、刻蚀深度为690 nm的位相型计算全息图元件,并对加工结果进行了测量。结果表明,本方案所制作的计算全息图元件具有良好的加工质量,符合应用的需求。 |
| 【分 类】 | 【数理科学和化学】 > 物理学 > 光学 > 信息光学 > 全息光学 |
| 【关键词】 | 非球面测试 计算全息图 电子束光刻 湿法腐蚀 感应耦合等离子体刻蚀 |
| 【出 处】 | 《微细加工技术》2008年 第6期 7-8页 共3页 |
| 【收 录】 | 中文科技期刊数据库 |
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