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聚焦离子束无掩模刻蚀研究

《微细加工技术》1996年 第4期 | 王学超 汪健如   清华大学电子工程系,北京1000084
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摘 要:利用镓源二级透镜聚焦离子束装置在半导体基片上进行了一系列的无掩模刻蚀实验研究,在不同材料上刻蚀了各种图形,总结分析了不同参数的聚焦主子束对刻蚀的影响。
【分 类】【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 半导体器件制造工艺及设备 > 光刻、掩膜
【关键词】 聚焦离子束 无掩模刻蚀 微细加工 半导体器件
【出 处】 《微细加工技术》1996年 第4期 56-62页 共7页
【收 录】 中文科技期刊数据库