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电极对PZT铁电薄膜的铁电和光学性能的影响

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张景基[1] 赖珍荃[2] 王震东[1] 李新曦[1] 钟双英[1,2] 范定寰[2] 黄志明[3]

[1]南昌大学材料科学系,江西南昌330031 [2]南昌大学物理学系,江西南昌330031 [3]中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海200083

《南昌大学学报：理科版》

2007年第31卷第4期

摘　　要:

采用射频磁控溅射（RF Magnetron Sputtering）工艺任Si片上分别制备Pt／Ti和LaNiO3（LNO）底电极，然后在不同的底电极上沉积PbZr0.52Ti0.48O3（PZT）铁电薄膜，在大气环境中对沉积的PZT薄膜进行快速热退火处理（RTA）：用X射线衍射（XRD）分析PZT薄膜的相结构和结晶取向，原予力显微镜（AFM）分析薄膜的表面形貌和微结构。再沉积LNO作为顶电极制成“三明治”结构的LNO／PZT／Pt和LNO／PZT／LNO样品，用RT66A标准铁电测试系统分析样品的电学持性，傅立叶红外光谱仪分别测得样品的反射谱和透射谱。分析了不同电极对PZT铁电薄膜的铁电和光学性能的影响。 (共4页)