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电子电信 >> 材料导报 >> 2007年21卷7期 >> 摘要

不同磁场分布在磁控溅射制膜技术中的应用

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黄琥 栾伟玲 涂善东

华东理工大学机械与动力工程学院,上海200237

材料导报

《材料导报》

2007年第21卷第7期

摘　　要:

介绍了用于制备薄膜材料的磁控溅射技术,总结了以改变磁场分布方式而得到的各类新型磁控溅射方式,如非平衡磁场（扩散性、内敛性、闭合场）,扫描磁场,强度可变磁场,在基片、靶面或其他部位外加的磁场,高强度磁场等。

关键词:

磁控溅射薄膜磁场分布

学科分类:

TN304.05[工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 材料 > 一般性问题 > 制取方法与设备]

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