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溅射时间对硼掺杂ZnO薄膜性能的影响

《材料导报》2013年 第18期 | 化麒麟 付蕊 杨雯 杨培志   云南师范大学太阳能研究所 可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室昆明650092

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摘 要:采用脉冲磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了硼掺杂氧化锌(ZnO∶B)薄膜,利用X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、紫外-可见光-近红外分光光度计和四探针测试仪研究了溅射时间与薄膜的结构、光学和电学特性的关系.结果表明:ZnO∶B是多晶薄膜,具有六方钎锌矿结构且呈c轴择优取向,其透明导电性能优良,在可见光谱范围的平均透先率超过80%,薄膜电阻率随溅射时间延长而降低至3.0×10-3 Ω·cm.
【分 类】 【工业技术】 > 一般工业技术 > 工程材料学 > 功能材料
【关键词】 ZnO∶B薄膜 溅射时间 光电特性 透光率
【出 处】 《材料导报》2013年 第18期 16-18页 共4页
【收 录】 中文科技期刊数据库