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面向21世纪的Si基光子学

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彭英才[1,2] Seiichi Miyazaki[3] 徐骏[4] 陈坤基[4]

[1]河北大学电子信息工程学院,保定071002 [2]中国科学院半导体研究所,半导体材料科学重点实验室,北京100083 [3]Professor,Graduate School of Advanced Sciences of Matter,Hiroshima University,Japan [4]南京大学物理系与固体微结构国家重点实验室,南京210093

《自然杂志》

2006年第28卷第2期

摘　　要:

Si基光子学是近年来在半导体光电子学和纳米材料科学领域中迅速发展起来的一个新型分支学科，旨在研究各类Si基低维材料的发光特性。各种Si基光子器件的设计与制作，并进而实现用于现代光通信技术的全Si光电子集成电路。预计在未来10年内，随着Si基纳米材料发光效率的提高，器件制备技术的进步和光电子集成工艺的成熟，Si基光子学的研究将出现重大突破性进展，并很有可能引发一场新的信息技术革命。本文着重介绍了用于Si基光电集成的光子学材料、器件与工艺在近3～5年内所取得的研究进展，并预测了它们的未来发展趋势。 (共5页)