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河南师范大学学报:自然科学版
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2007年35卷2期
>> 摘要
6H—SiC(0001)衬底结构对GaN膜结构的影响第一原理研究
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辛永松
[1]
张百新
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戴宪起
[3]
[1]
平顶山教育学院
,河南平顶山467000 [2]
濮阳职业技术学院
,河南濮阳457000 [3]
河南师范大学物理与信息工程学院
,河南新乡453007
《河南师范大学学报:自然科学版》
2007年第35卷第2期
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摘 要:
用从头计算方法总能理论研究了6H—SiC(0001)(√3×√3)R30°衬底上生长的GaN薄膜的界面结构特性.计算结果表明:GaN膜为Ga极性的纤锌矿结构;6H—SiC(0001)衬底表面台阶引起的GaN岛合并在薄膜中产生边界堆垛失配(SMBs),而这种SMBs缺陷随着薄膜生长厚度的增加可以消除. (共4页)
关 键 词:
台阶
极性
6H—SiC
GaN
学科分类:
O472.3
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数理科学和化学
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物理学
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