6H—SiC(0001)衬底结构对GaN膜结构的影响第一原理研究

辛永松[1] 张百新[2] 戴宪起[3]

[1]平顶山教育学院,河南平顶山467000 [2]濮阳职业技术学院,河南濮阳457000 [3]河南师范大学物理与信息工程学院,河南新乡453007

摘  要:

用从头计算方法总能理论研究了6H—SiC(0001)(√3×√3)R30°衬底上生长的GaN薄膜的界面结构特性.计算结果表明:GaN膜为Ga极性的纤锌矿结构;6H—SiC(0001)衬底表面台阶引起的GaN岛合并在薄膜中产生边界堆垛失配(SMBs),而这种SMBs缺陷随着薄膜生长厚度的增加可以消除. (共4页)
关 键 词:
台阶 极性 6H—SiC GaN

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