氧化钴多孔薄膜的电化学制备及其超电容性能

摘　　要:

采用恒电流沉积方法，以0．2mol／LCoSO4＋1．5mol／％H2SO4为电镀液，在阴极大电流密度下，以氢气泡为模板，在石墨基体上成功制备了CoOx·yH2O多孔薄膜．通过扫描电子显微镜、循环伏安法和恒电流充放电技术等对CoOx·yH2O多孔薄膜的形貌及超电容性能进行表征和研究，并对CoOx·yH2O多孔薄膜的沉积机理进行了探讨．结果表明：CoOx·yH2O薄膜呈纳米／亚微米级的多孔结构，随阴极电流密度的增加，薄膜的孔径增大；同时，膜层具有优异的充放电性能和功率特性，比电容达64．8F·g^-1，并具有良好的稳定性． (共5页)