脉冲激光辐照单晶硅形成的低维结构及其光致荧光特性
许丽[1] 黄伟其[1,2] 吴克跃[1] 金峰[1] 王海旭[1]
[1]贵州大学贵州省光电子技术与应用重点实验室,贵阳550025 [2]贵州教育学院物理系,贵阳550003
摘 要:
将功率密度约为0.5J·s^-1·cm^-2、脉冲宽度约为8ns、束斑直径为0.045mm、波长为1064nm的YAG激光束照射在硅样品表面打出小孔,在孔内的侧壁上形成较规则的网孔状结构;该结构有很强的光致荧光,其强度比该样品的瑞利散射强;发光峰中心约在700nm处。在无氧化的环境里用激光加工出的硅样品几乎无发光,这证实了氧在光致荧光增强上起着重要作用。用冷等离子体波模型来解释孔侧壁网孔状结构形成的机理,并用量子受限-发光中心模型来解释纳米网孔壁结构的强荧光效应。当激光辐照时间为9s时,孔洞侧壁上的网孔状结构较稳定,且有较强的光致荧光。 (共4页)学科分类:
TN249[工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 光电子技术、激光技术 > 激光技术、微波激射技术 > 激光的应用]


















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