摘 要:
利用X射线光电子能谱（XPS）对菲四甲酸二酐[3，4，9，10-perylenetetracarboxylic dianhydride（PTCDA）]／铟锡氧化物（ITO）表面和界面进行了研究．用原子力显微镜（AFM）对PTCDA／ITO样品的表面形貌进行了分析．XPS表明，在原始表面的Cls精细谱存在两个主谱峰和一个伴峰，主谱峰分别由结合能为284．6eV的茈环中的C原子和结合能为288．7eV的酸酐基团中的C原子激发；而结合能为290．4eV的伴峰的存在，说明发生了来源于ITO膜中的氧对C原子的氧化现象．O原子在C—O键和C-O-C键的结合能分别为531，5和533．4eV．在界面处，Cls谱中较高结合能峰消失，且峰值向低结合能方向发生0．2eV的化学位移；01s谱向低结合能方向发生1．5eV的化学位移．由此可以推断，在界面处PTCDA与ITO的结合是PTCDA中的菲环与ITO中的In空位的结合．AFM的结果显示，PTCDA薄膜为岛状结构，岛的直径约为100～300nm，表面起伏约为14nm．相邻两层PTC—DA分子由于存在离域大π键而交叠和PTCDA分子中的菲环与ITO的In空位的紧密结合是最终导致PTCDA岛状结构形成的原因． (共6页)
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