Al-N共掺P型Zn0.95Mg0.05O薄膜的性能
简中祥 叶志镇 高国华 卢洋藩 赵炳辉 曾昱嘉 朱丽萍
浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州310027
摘 要:
利用直流反应磁控溅射法，以N2O为N掺杂源，用Al-N共掺技术制备了P型Zn0.95Mg0.05O薄膜．用X射线衍射分析（XRD）、Hall测试仪和紫外可见（UV）透射谱等研究方法对其晶体结构、电学性能和禁带宽度进行分析．XRD分析结果表明，Zn0.95Mg0.05O薄膜具有良好的晶格取向，Hall测试的结果所得P型Zn0.95Mg0.05O薄膜最低电阻率为58．5Ω·cm，载流子浓度为1．95×10^17cm^-3，迁移率为0．546cm^2／（V·s），UV透射谱所推出的薄膜禁带宽度中，纯ZnO，p型Zn0.95Mg0.05O和p型Zn0.9Mg0.1O分别为3．34，3．39和3．46eV，可以看出Mg在ZnO禁带宽度中起了调节作用．
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