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半导体学报
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2007年28卷5期
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飞秒激光制备CdS薄膜滤波器的研究
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童杏林
刘恋
姜德生
刘忠明
武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室
,武汉430070
《半导体学报》
2007年第28卷第5期
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摘 要:
采用脉冲飞秒激光沉积方法,在石英衬底上制备了CdS薄膜滤波器.研究显示衬底温度在100~600℃范围内变化对CdS薄膜衬底的结构及光学特性有重要影响,在450℃的衬底温度下所生长的CdS薄膜具有较好的结构质量,该薄膜在500nm附近具有较陡的吸收带边及良好的光学滤波性能.
关 键 词:
CdS薄膜滤波器
脉冲激光沉积
结构和光学特性
学科分类:
O484.1
[
数理科学和化学
>
物理学
>
固体物理学
>
薄膜物理学
>
薄膜的生长、结构和外延
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