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硅材料中硼杂质扩散综述

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王春梅

中国电子科技集团公司第46所,天津300220

天津科技
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国际标准刊号:ISSN 1006-8945
国内统一刊号:CN 12-1203

摘  要:

对国内近20年来扩散技术的进展进行了介绍,引用不同科研人员的研究成果说明以下结论:硼扩散仍是目前扩散中最常用的扩散方法;乳胶源扩散比普通的硼扩散容易实现深扩散;乳胶硼铝扩散必须在抛光前进行,可采用两次扩散的方法来代替。[著者文摘]

关 键 词:

硼扩散 两次扩散

文章出处:

《天津科技》-2008年1期 -64-65页

Tianjin Science & Technology

栏目信息:

科学观察

分 类 号:

TN304.054 TN386

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收稿日期: 2007-12-26
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