低温镀铁时电流密度对镀层性能的影响

刘忆[1] 杨森[2] 殷锦捷[2] 韩辉[2]

[1]徐州工程学院机电分院,江苏徐州221008 [2]辽宁工程技术大学材料系,辽宁阜新123000

摘  要:

研究了不同电流密度下所得低温镀铁层的沉积速率、显微硬度和腐蚀速率。结果表明,当电流密度为14A/dm^2时镀层可获得最佳的综合性能。电流密度过低时,镀层沉积速率慢,硬度低;电流密度过高时,镀层表面出现针孔,厚度不均。 (共2页)

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