高岭石／N-甲基甲酰胺插层复合物的制备

摘　　要:

室温下，通过磁力搅拌制备高岭石／N-甲基甲酰胺（NMF）插层复合物．用XRD、FT-IR、TG-DSC分析插层前后特征基团和结构的变化．结果表明：NMF有机分子进入高岭石层间，在连续搅拌24h后插层率为92％，层间距由0．71nm膨胀为1．07nm，随着反应时间的延长，插层率下降，但是其结构的有序度提高；插层后3696cm^-1、3668cm^-1、3651cm^-1处峰强度变弱，3619cm^-1基本不变，在1638cm^-1和3553cm^-1处出现新的吸收峰；TG-DSC分析表明在145℃左右有机分子分解，512℃左右失去结构水，1000℃左右出现相转变． (共3页)