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集成电路应用
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影响因子(2023) 0.466

《集成电路应用》杂志立足于中国电子信息产业,面向电子系统制造商与方案设计公司,致力于满足技术管理人员对新技术、新方案以及市场信息的需求。读者对象:专业学者,专业研究人员,工程技术人员和院校师生。主要栏目: 产业评论、市场分析、设计与研究、工艺与制造、创新应用、新产品发布、区域动态、读者信箱。

  • 主管单位: 中国电子信息产业集团有限公司
  • 主办单位: 上海贝岭股份有限公司
  • 出版地区: 上海
  • 出版周期: 月刊
  • 别名: Application of IC
  • 国内统一连续出版物号: CN 31-1325/TN
  • 国际标准连续出版物号: ISSN 1674-2583
  • 创刊时间: 1984年
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分析评价
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封面
2024年12期
共:197篇

      研究与设计

    • 马畅杨晨

      1-3
    • 李黔黔廖洪罗浩东曾以春雷乔之

      4-5
    • 廖洪李黔黔李志文喻梓瑞

      6-7
    • 罗浩东李熔鑫李黔黔

      8-9
    • 刘谱辉周逸鹏周国平

      10-12
    • 刘海皓

      13-15
    • 熊剑眭海军马艳巍汪亮

      16-19
    • 侯文汉丁召

      20-21
    • 22-25
    • 陈丹侯杨阳

      26-27
    • 武柏谭歆朱鸿熙赵东岩

      28-29
    • 侯方宇郑云

      30-31
    • 杨思琪

      32-33
    • 麦均袁畅

      34-35
    • 吕柯

      36-37
    • 张湛栩杨晨

      38-39
    • 邓江伟杨晨

      40-41
    • 杨连滔王继红

      42-43
    • 朱强

      44-45
    • 储萍扈文佳

      46-48
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2024年12期

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