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瑞士
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International Journal of Arts and Technology 中科院4区 JCR:Q4 ESCI EI
发文量 356
被引量 2,163
影响因子(2025版) 0.905

  • 主办单位： INDERSCIENCE ENTERPRISES LTD
  • 出版地区： GENEVA
  • 出版周期： 季刊
  • 别名： INT J ARTS TECHNOL;Int. J. Arts Technol.;INTERNATIONAL JOURNAL OF ARTS AND TECHNOLOGY
  • 国际标准连续出版物号/电子版： ISSN 1754-8853 / EISSN 1754-8861
  • 创刊时间： 2008年
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封面
2026年7期
共：6篇

    • Lin, Yao

      4-29

    • Zeng, HenanShu, Yu

      30-49

    • Qin, Kang

      50-73

    • Li, Yujuan

      74-96

    • Tang, Yesi

      97-114

    • Jiang, YiSong, Kai

      115-130
2026年7期

2026年7期

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