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International Journal of Applied Pattern Recognition 中科院4区 JCR:Q4 ESCI
发文量 138
被引量 1,514

  • 主办单位： INDERSCIENCE ENTERPRISES LTD
  • 出版地区： GENEVA
  • 出版周期： 季刊
  • 别名： INT J APPL PATTERN R;Int. J. Appl. Pattern Recognit.;INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED PATTERN RECOGNITION
  • 国际标准连续出版物号/电子版： ISSN 2049-887X / EISSN 2049-8888
  • 创刊时间： 2013年
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封面
2026年2期
共：2篇

    • Melchor-Perez, ErwisMartinez-Trinidad, Jose Fco.Carrasco-Ochoa, J. ArielSantiago-Alvarado, Agustin

      1-22

    • Singha, UtchchhwasSheam, Kamruj JamanAl Mujadded, SiamRahman, Ashikur

      23-51
2026年2期

2026年2期

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