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荷兰
World Patent Information 中科院4区 JCR:Q2 ESCI JST
发文量 5,273
被引量 18,362
影响因子(2025版) 1.629

The journal for intellectual property information and its retrieval, documentation, classification, search, analysis and IP managementWorld Patent Information aims to encompass the world of IP information; and focus the journal towards IPRs for industrially applicable innovations; and their management, analysis; big data analysis; policy; education. IPRs - patents, utility models; copyright, trademarks, registered design; design rights; trade secrets; database rights; traditional knowledge; indigenous knowledge; geographical indications may all be considered.

  • 主办单位： ELSEVIER
  • 出版地区： AMSTERDAM
  • 出版周期： 季刊
  • 别名： WORLD PAT INF;World Pat. Inf.;WORLD PATENT INFORMATION;世界专利信息
  • 国际标准连续出版物号/电子版： ISSN 0172-2190 / EISSN 1874-690X
  • 创刊时间： 1979年
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目录
封面
2026年--期
共：14篇

    • Dhulap, SivakamiSreenivasan, KishoreGanguli, Prabuddha

    • Peters, Andreas

    • Rattat, DirkBarnabei, Laura

    • Shamsi, AmrollahWang, TingDarabi, AmirhosseinHeidari, HadisehSolis-Navarrete, Jose AlbertoDakhesh, Sara

    • Vladislavovna, Ivashchenko ValentinaDmitrievna, Nikolaeva ElenaVasilyevich, Popov NikolayDmitrievich, Alexandrov YuriYuryevna, Anikeeva MarinaValeryevna, Vasilkova Olga

    • Bae, SeongHeeKim, Taehoon

    • Kawai, YasuakiKano, Shingo

    • Barbosa, Lucas Antonio dos SantosAlmarie, BasselToledo-Silva, GuilhermeMoreira, Eduardo Luiz Gasnhar

    • Yoo, Jewon

    • Polo, Maria J. LozanoMarquez, Katty AvilezTeheran, Jose D. AriasNaizir, Jairo SalcedoRuydiaz, Jorge E. HernandezMendoza, Jairo G. SalcedoPerez, Dalis D. Gale

2026年--期

2026年--期

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