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光刻技术平版印刷术光刻胶IC集成电路浸入式光刻步进器光学临近效应修正分辨力增强技术批判性维度边缘粗糙度显微织构深紫外光刻计量学科航空影象晶圆片光学邻近效应光掩膜板三次相位掩膜分辨率网状掩膜版
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Farrar, Nigel R.Brandt, David C.
Himel, Marc D.Carriere, James T. A.Schellenberg, F. M.Granik, Y.
Mack, Chris A.
2008年4期
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