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光刻技术平版印刷术中分辨率成像光谱仪浸没式光刻光学临近效应修正批判性维度电路集成化踏跳板显微织构深紫外光刻航空影象晶圆片光学邻近效应线边缘粗糙度度量学半导体工业光掩膜板三次相位掩膜分辨率网状掩膜版
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Farrar, Nigel R.Brandt, David C.
Himel, Marc D.Carriere, James T. A.Schellenberg, F. M.Granik, Y.
Mack, Chris A.
2008年4期
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