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德国
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International Journal of Oral Implantology 中科院3区 JCR:Q2 SCIE PubMed
发文量 693
被引量 18,171
影响因子(2025版) 2.000

  • 主办单位： QUINTESSENCE PUBLISHING CO INC
  • 出版地区： HANOVER PARK
  • 出版周期： 季刊
  • 别名： INT J ORAL IMPL;Int. J. Oral Implant.;International journal of oral implantology (New Malden, London, England);International journal of oral implantology.;INTERNATIONAL JOURNAL OF ORAL IMPLANTOLOGY
  • 国际标准连续出版物号/电子版： ISSN 2631-6420 / EISSN 2631-6439
  • 创刊时间： 2019年
  • 曾用名： European journal of oral implantology
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封面
2026年1期
共：6篇

    • Misch, Craig M.

      3-5

    • Alrmali, Abdusalam E.Misch, JonathanGomez-Meda, RamonSaleh, Muhammad H. A.Wang, Hom-Lay

      13-29

    • Lin, Cho-YingKuo, Pe-YiChiu, Meng-YaoWang, Hom-Lay

      31-46

    • Staas, Tristan AriaanGroenendijk, EdithHamerslag, ErikaBronkhorst, EwaldVerhamme, LucRaghoebar, Gerry MaxMeijer, Gerrit Jacobus

      47-60

    • Stacchi, ClaudioTestori, TizianoRapani, AntonioArai, YoshiakiAvila-Ortiz, GustavoBlanco-Carrion, JuanBorges, TiagoBressan, Erib ertoCanullo, LuigiGalindo-Moreno, PabloGaraicoa-Pazrnino, CarlosLin, Guo-HaoLinkevicius, TornasMattheos, NikosMikulas, KrisztinaMonje, AlbertoMunoz, MartaPadial-Molina, MiguelRavida, AndreaEira, Rafael SiquSpinato, Sergiodel Arno, Fernando Suarez-LopezTomasi, CristianoTroiano, GiuseppeWang, Horn-LayLornbardi, Teresa

      61-74

    • Glauser, Roland

      77-88
2026年1期

2026年1期

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