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美国
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Plasma Chemistry and Plasma Processing 中科院3区 JCR:Q3 JCR:Q2 SCIE EI CA JST
发文量 2,729
被引量 85,045
影响因子(2025版) 1.441

Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such applications include but are not limited to plasma catalysis, environmental processing including treatment of liquids and gases, biological applications of plasmas including plasma medicine and agriculture, surface modification and deposition, powder and nanostructure synthesis, energy applications including plasma combustion and reforming, resource recovery, coupling of plasmas and electrochemistry, and plasma etching. Studies of chemical kinetics in plasmas, and the interactions of plasmas with surfaces are also solicited. It is essential that submissions include substantial consideration of the role of the plasma, for example, the relevant plasma chemistry, plasma physics or plasma–surface interactions; manuscripts that consider solely the properties of materials or substances processed using a plasma are not within the journal’s scope.

  • 主办单位： SPRINGER
  • 出版地区： NEW YORK
  • 出版周期： 双月刊
  • 别名： PLASMA CHEM PLASMA P;Plasma Chem. Plasma Process.;PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING;等离子体化学与等离子体处理
  • 国际标准连续出版物号/电子版： ISSN 0272-4324 / EISSN 1572-8986
  • 创刊时间： 1981年
热门主题：

热等离子体等离子体处理大气压等离子体射流光学发射光谱冷等离子体大气压等离子体催化非热等离子体电离子介质阻挡放电等离子体反应器空气等离子体等离子体介质阻挡等离子体放电低温等离子体催化非热放电等离子体等离子体化学等离子体辅助化学气相沉积等离子体活化水常压冷等离子体

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