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Plasma Devices and Operations
JST
- 主办单位： Taylor & Francis
- 出版周期： 季刊
- 别名： Plasma Devices & Operations;PLASMA DEVICES AND OPERATIONS;等离子设备和操作
- 国际标准连续出版物号/电子版： ISSN 1051-9998 / EISSN 1029-4929
- 创刊时间： 1990年
期刊信息
- 主办单位：Taylor & Francis
- 地 址： --
期刊简介