• 充值
  • 会员
  • 职称材料
搜期刊
刊名

文献信息

  • 任意字段
  • 主题词
  • 篇关摘
  • 篇名
  • 关键词
  • 摘要
  • 作者
  • 第一作者
  • 作者单位
  • 刊名
  • 中图分类号
  • 学科分类号
  • DOI
  • 基金
文献检索

美国
投稿预审
Semiconductor International JST
发文量 4,836
被引量 5,439

  • 主办单位： Elsevier
  • 出版周期： 月刊
  • 国际标准连续出版物号： ISSN 0163-3767
  • 创刊时间： 1978年
热门主题：

氧化物电磁兼容平版印刷术半导体离子植入光刻胶电介体电离子等离子体事中过程控制电路集成化污染度控制蚀刻画半导体生产系统等离子体辅助化学气相沉积晶圆片度量学半导体工业网状掩膜版生产商

收录汇总 栏目浏览 期刊详情
收录汇总
出版文献
期刊详情
新发布(2025版)
分析评价

期刊信息

  • 主办单位：Elsevier
  • 地  址： --

期刊简介

客服咨询
投稿相关：023-63416211
撤稿相关：023-63012682
查重相关：023-63506028
重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-1 渝公网备 50019002500403
违法和不良信息举报中心   举报邮箱：jubao@cqvip.com   互联网算法推荐专项举报：sfjubao@cqvip.com    网络暴力专项举报: bljubao@cqvip.com
网络出版：（署）网出证（渝）字第014号    出版物经营许可证：新出发2018批字第006号