Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology
中科院3区 JCR:Q4 JCR:Q3 EI PubMed JST
发文量 2,064
被引量 21,547
影响因子(2025版) 1.158
- 主办单位: SPIE-SOC PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS
- 出版地区: BELLINGHAM
- 出版周期: 季刊
- 别名: J MICRO-NANOPATTERN;J. Micro-Nanopatterning Mater. Metrol.-JM3;JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3
- 创刊时间: 2021年
- 曾用名: Journal of Micro - Nanolithography MEMS and MOEMS,Journal of Microlithography, Microfabrication and Microsystems