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CMOS工艺等离子体放电半导体工艺等离子体刻蚀缺陷铝互连线彭宁放电互补性金属氧化物半导体脉冲功率应用离子推力器FFT分析高k金属栅等离子损伤发射方向图磁场环境脉冲供电装置栅极晶体管推力抽承金属氧化物半导体损伤可靠性
无数据
vol.2010 (2010)
vol.2009 (2009)
vol.2008 (2008)
Wirz, RichardSullivan, ReginaPrzybylowski, JohannaSilva, Mike
El amrani, A.Tadjine, R.Moussa, F.Y.
Lee, Hong-JiHung, Che-LunLeng, Chia-HaoLian, Nan-TzuYoung, Ling-WuYang, TahoneChen, Kuang-ChaoLu, Chih-Yuan
Jadeja, R.B.Kanitkar, S.A.Shyam, Anurag
Klepper, C.C.Hazelton, R.C.Barakat, F.Keitz, M.D.Verboncoeur, J.P.
Khaydarov, R.T.Kunishev, U.S.
2008年1期
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